(1)光解除臭設(shè)備的目的是通過氣體排放產(chǎn)生的高活性粒子與污染物的碰撞，達到凈化廢氣的目的，使其游離氧化。近年來，光解除臭設(shè)備在低濃度VOCs廢氣和惡臭氣體的處理中得到了廣泛的應(yīng)用。工程實踐表明，該技術(shù)對低濃度含vocs廢氣(一般低于300mg/m3)和惡臭氣體凈化效果較***。對不同種類的有機物質(zhì)和惡臭污染物凈化效果是不同的,具體的流程設(shè)計根據(jù)不同工作條件的廢氣成分和濃度、低溫等離子體凈化技術(shù)的適應(yīng)性。(3)當(dāng)有機廢氣濃度較高時，低溫等離子體一般不宜作為的處理單元使用，應(yīng)與其他處理單元聯(lián)合使用。作為二次凈化裝置，一般能取得較***的處理效果。(4)在石油化工等對防爆等級要求較高的場合，由于周圍可能存在突發(fā)性有機廢氣的處理，使用時應(yīng)仔細(xì)評估。

　　目前市場上從事低溫等離子體VOCs凈化的企業(yè)較多，專業(yè)水平參差不齊。部分企業(yè)不具備低溫等離子體設(shè)備的設(shè)計能力，缺乏工藝設(shè)計、項目實施和服務(wù)保障能力。一些用戶在使用過程中也存在問題，如操作不規(guī)范、運維不到位、工程應(yīng)用存在一定的安全隱患。

　　(1)廢氣本身或處理系統(tǒng)中積累的有機物濃度較高，達到凈化物質(zhì)(或混合物)爆炸限值。當(dāng)電極放電時，裝置就會爆炸。

　　(2)廢氣預(yù)處理不到位。廢氣中的油霧、漆霧等顆粒進入光解除臭設(shè)備，沉積在設(shè)備的電極或壁上。當(dāng)積累到一定程度時，會引起設(shè)備起火。

　　(3)有些化合物在低溫等離子體下發(fā)生聚合反應(yīng)，在電極或器件壁上沉積結(jié)焦，積累到一定程度也會引起器件起火。

　　(1)光解除臭設(shè)備適用于處理低濃度VOCs廢氣(一般小于300mg/m3)，廢氣濃度應(yīng)遠(yuǎn)低于爆炸下限，以確保無爆炸。

　　(2)對于含有油霧、漆霧等顆粒物的廢氣，應(yīng)提供適當(dāng)?shù)念A(yù)處理工藝，如高效過濾，以低溫等離子體處理設(shè)備的安全。

　　(3)低溫等離子體機組啟動前，需要啟動風(fēng)機吹掃處理系統(tǒng)，防止放電火花引起高濃度有機物的堆積。

　　(5)從生產(chǎn)和使用低溫等離子體產(chǎn)品的全過程出發(fā)，加強產(chǎn)品的安全設(shè)計、制造、運行、、報警、應(yīng)急處理等措施。附件下載：(已下載0次)標(biāo)簽：光解除臭設(shè)備更多更多

　　活性炭吸附催化燃燒設(shè)備